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真空熔煉爐

本系列設備是在真空或充氣狀態下，進行鐵基、鎳基合金、磁性材料、高純金屬和有活潑元素的合金熔煉的裝置。適用于單晶葉片及高溫結構件的生產。可廣泛的應用于高純金屬，難熔金屬，半導體材料、放射性材料的冶煉。
本系列設備是在真空或充氣狀態下，進行鐵基、鎳基合金、磁性材料、高純金屬和有活潑元素的合金熔煉的裝置。適用于單晶葉片及高溫結構件的生產。可廣泛的應用于高純金屬，難熔金屬，半導體材料、放射性材料的冶煉。 技術參數： 技術指標/型號/名稱 單晶爐 懸浮爐 半連續 無芯感應熔煉爐 ZGD1 ZGXF-10 ZGB-0.5 ZGB-0.1 GW-0.05 GW-0.15 GW-0.5 以綱針容量（kg) 8 10 500 100 50 150 500 電源功率（KW） 100 300 350 100 50 100 250 電源頻率（Hz) 2500 2500-4000 2500 2500 2500 2500 2500 最高溫度(oC) 溫度梯度>80oC 1600 1600-1700 1600 1600 1600 1600 感應器兩端電壓（V） 250 250 250 250 - - - 極限真空度（Pa) 10-2 6.67×10-2 5×10-2 5×10-2 - - - 工作真空度（Pa) 10-1 6.67×10-1 5×10-1 5×10-1 - - - 壓升率（Pa/min) 3×10-1 1.33×10-2 1.33×10-2 1.33×10-2 - - - 鑄造抽拉速度（mm/min) 0.5-10 - - - - - - 鑄型升降速度（mm/min) 400 - - - - - - 水冷結晶器直徑（mm) φ130 - - - - - - 磁性調壓容量（KVA） 30;63 - - - - - - 成套總功率（KVA） 280 370 680 150 - - -